폰테크 당일폰테크 폰테크당일 비대면폰테크 폰테크통신 전문 24시 https://cmaxfanatics.com/ [인천=뉴시스] 김동영 기자 = 인하대학교는 김명웅 화학·화학공학융합학과 교수와 이진균 고분자공학과 교수 공동연구팀이 차세대 반도체 및 디스플레이 공정에 적용 가능한 신개념 포토레지스트 구조 설계 기술을 개발했다고 5일 밝혔다.
이번 연구에는 인하대 석사과정생 은경현, 이혜지, 윤상민 씨가 제1저자로 참여했으며, 한국연구재단과 한국산업기술기획평가원, 삼성종합기술원(SAIT)의 지원을 받아 수행됐다.
연구팀은 심자외선(DUV) 및 극자외선(EUV) 포토레지스트 소재의 구조를 새롭게 설계해, 빛이 조사된 영역과 조사되지 않은 영역 간 용해도 차이를 극대화하는 방법론을 제시했다.
포토레지스트는 광 리소그래피 공정에서 미세 회로 패턴을 형성하는 데 사용되는 핵심 소재로, 소재의 성능은 반도체 품질과 수율에 직접적인 영향을 미친다.
연구진은 고분자 사슬이 빛에 반응해 분해되고 구조가 변화하는 메커니즘을 적용하고 고분자 화학 구조와 용해성의 상관관계를 이론과 실험을 통해 분석했다.
이 과정을 바탕으로 새로운 구조의 고분자 포토레지스트를 직접 합성하는 데도 성공했다.
이번 기술은 반도체 공정뿐 아니라 OLED 픽셀 제조 등 고해상도 디스플레이 공정에도 활용이 가능하며 국내 소재 기술의 경쟁력을 높일 수 있는 기반으로 주목받고 있다.
연구 결과는 소재 분야 권위지 Advanced Functional Materials와 고분자 분야 국제학술지 European Polymer Journal에 각각 게재됐다.
김명웅 교수는 “기초 고분자 화학 원리에서 출발해 응용까지 이어진 연구”라며 “추후 다양한 소재 응용 분야로 확장해나갈 계획”이라고 말했다.
이진균 교수는 “이번 연구는 반도체 및 디스플레이 기술의 고도화를 위한 새로운 해법을 제시한 것”이라며 “향후 다양한 산업 분야로의 응용 가능성도 크다”고 전했다.
◎공감언론 뉴시스 dy0121@newsis.com폰테크 비대면폰테크 폰테크당일 당일폰테크 #폰테크 #비대면폰테크 #폰테크당일 #당일폰테크 https://cmaxfanatics.com/ https://cafe.naver.com/1djr152